台積電需求帶動:
隨著3奈米製程營運比重增加,2奈米需求表現亮眼,台積電持續推動先進製程,吸引更多供應鏈廠商參與。
世禾成核心清洗供應商:
世禾(3551)已是台積電7奈米至3奈米先進製程清洗設備的主要供應商,並有望獲得2奈米設備清潔工程,對2024年營運增添動能。
清洗營收比重大增:
世禾近年從面板轉型半導體設備清洗服務,目前該公司在半導體領域營收占比已達5成以上,成為穩定收入來源。
滿載產能規劃擴廠:
世禾新竹廠的產能利用率從75%持續攀升,目前已達滿載,為應對需求,公司已開始擴廠規劃。
N2製程清洗認證通過:
9月時,世禾已成功通過台積電2奈米製程清洗認證,顯示其清洗技術符合業界高精度需求,為公司明年業績奠定基礎。
高精度清洗成關鍵競爭力:
隨5奈米及以下製程材料結構精細度提升,清洗設備需求的精度要求更加嚴苛,世禾技術具備市場競爭優勢,能徹底清除污染物同時保護晶圓。
全球半導體先進製程推動:
全球進入更高階製程時代,台積電3奈米產能滿載、5奈米設備部分轉為支援3奈米,2奈米預計2025年量產,有助推升世禾清洗設備需求。
訂單能見度展望良好:
未來二至三年,先進製程及高階封裝需求大增,市場預期世禾訂單能見度延至明年,助力長期成長。
結論:
隨著台積電不斷推動先進製程,對清洗設備需求也日益強烈,世禾藉由在2奈米清洗領域的技術優勢,將有望在先進製程市場中扮演關鍵角色,成為台積電產線運營的重要後盾,並為公司營運帶來穩定增長。